Представлен анализ механизма насыщения вакуумного резонансного СВЧ разряда (мультипактора) в тормозящем электростатическом поле, обеспечивающем возврат электронов к поверхности с вторично-эмиссионным размножением. Дано обоснование стационарного состояния, в котором кулоновская дефокусировка электронных сгустков превышает СВЧ фокусировку (к резонансной фазе поля), так что воспроизведение сгустков на поверхности происходит с необходимым отсевом избытка вторичных электронов. На основе предложенной модели найдены основные характеристики разряда: величина и фазовое расположение резонансного сгустка электронов. Дано объяснение нарастания мощности разряда с увеличением коэффициента вторичной эмиссии.

We analyze saturation mechanism of the vacuum resonance RF discharge (multipactor) in the case where the decelerating electrostatic field returns electrons to the secondary-emission multiplying surface. It is found that the defocusing of electron beams prevails their RF focusing (toward the resonance phase of the field) at the stationary state, so that the bunch reproduction takes place on the surface with the necessary extraction of the superfluous secondary electrons. Using the suggested model, we determine main characteristics of this multipactor, such as the value and phase disposition of the resonant electron beam. The explanation of the increase of the discharge power with increasing yield of the secondary emission is proposed.